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如何根據應用選擇本公司濺射鍍膜儀或蒸鍍儀



應用

設備

特點

1

表麵鍍貴金屬用於薄膜研究(<2”

3靶等離子濺射鍍膜儀VTC-16-3HD

同一腔室中3靶頭用於貴金屬的濺射鍍膜

2

表麵鍍各種金屬用於薄膜研究(<2”

小型等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-16-SM

磁控濺射鍍膜

最大濺射電流可達150mAƒ可用於濺射各種輕金屬如Al,  Sn, Zn 等

3

表麵鍍絕大多數的金屬或無機非金屬材料薄膜(<2”

精密溫控高真空蒸發鍍膜儀GSL-1700X-SPC-2

高真空蒸發鍍膜儀

蒸鍍溫度從200-1500℃(或選配B型熱電偶,蒸鍍溫度可從1200-1700℃

4

表麵鍍氧化物薄膜(<2”

1英寸或2英寸300W射頻等離子磁控濺射儀VTC-2RF


低成本

射頻電源

5

各種材料表麵進行光學塗層(多晶)(<4”

超高真空4蒸發舟蒸發鍍膜儀GSL-1800-ZF4

分子泵高真空

4個蒸鍍加熱舟

6

金屬及無機非金屬氧化物薄膜的外延生長(<4”

DC/RF雙靶頭高真空等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-600-2HD

配備有直流以及射頻電源,分子泵

可用於各種材料薄膜的外延生長

ƒ同時配備測厚儀實時監控薄膜厚度


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